技术编号：15740628
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种低压线离子等离子体(wire ion plasma)放电源，特别是用作二次发射电子束的离子源，特别是用于脉冲X射线源。该类型的脉冲X射线发生器通常用作高能量准分子激光器的预电离源。背景技术这种X射线源的原理例如在Friede等人的美国专利n°4,955,045中描述。通常，参考图1，其示意性地表示在二次电子发射X射线发生器中使用的线离子等离子体(WIP)放电源，从脉冲高压+U源向在具有低气压(通常是氦气)的电离室中纵向延伸的一个或若干个平行线10(形成装置的阳极)施加正脉冲电压(1...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。