技术编号:15741650
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本申请要求于2015年12月23日提交的欧洲申请15202244.8的优先权,该欧洲申请的全部内容以引用的方式并入本文中。技术领域本发明涉及自由电子激光器(FEL)。特别地,但非排它地,本发明涉及适用于用于光刻系统的辐射源的FEL。背景技术光刻设备是被构造成将期望的图案施加到衬底上的机器。例如,光刻设备可用于制造集成电路(IC)。光刻设备可以例如将图案从图案形成装置(例如掩模)投影到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。光刻设备将图案投影到衬底上的所用的辐射的波长确定了可以在该衬底上形成的特...
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