技术编号：15741653
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本申请要求于2016年2月16日提交的题为“气体放电光源中的气体优化(GAS OPTIMIZATION IN A GAS DISCHARGE LASER SOURCE)”的美国实用申请No.15/044,677的权益，其通过引用整体并入本文。技术领域所公开的主题涉及在光源的气体放电室已经重新填充气体之后调节与光源中的气体相关联的条件。背景技术在光刻中使用的一种类型的气体放电光源被称为准分子光源或激光器。准分子激光器通常使用一种或多种稀有气体(诸如氩气、氪气或氙气)和反应性物质(诸如氟气或氯气)的...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。