等离子体处理装置和控制方法与流程技术资料下载

技术编号:15838553

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本发明涉及一种等离子体处理装置和控制方法。背景技术作为监视等离子体的状态的方法之一,已知发射光谱测量(OES:Optical Emission Spectroscopy)。在发射光谱测量中,利用放电等离子体来使试样中的对象元素蒸发气化来进行激发,对所得的元素固有的明线光谱(原子光谱)的波长进行定性,根据发光强度进行定量。专利文献1:日本特开2016-207915号公报专利文献2:日本特开平9-192479号公报专利文献3:日本特开2011-60852号公报专利文献4:日本特开2013-77441...
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