技术编号：15869411
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型大体上涉及质谱领域，包含真空歧管和真空系统。背景技术质谱大体上依赖离子的相对无碰撞移动。离子与中性气体分子碰撞可导致离子碎裂，从而减少待分析和检测的所有质量离子的数目。此外，离子与中性气体分子之间的碰撞可更改离子的轨迹和速度。如果充分更改轨迹，那么离子可偏转出离子路径且受损失，从而进一步减少待分析和检测的离子的数目。另外，质量分析器可依赖于离子的速度。通过与中性气体分子碰撞来更改离子的速度可不利地影响对离子质量的分析。质谱仪系统通常在高真空下操作以使离子的平均自由路径最大化。然而，源可...
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