技术编号:15886569
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及真空镀膜技术领域,具体为一种离子源多弧柱弧复合PVD镀膜系统及镀膜方法。背景技术在真空腔室内对工件进行真空镀膜之前,需要去除工件表面的杂气、水气以及氧化的杂质等,该过程称之为刻蚀,而常规的真空镀膜设备通常是利用加热元件对真空腔室进行加热,之后往真空腔室内输入2~6bar的Ar气,再通过对真空腔室加载600~1000V的偏置电压,使真空腔室内的Ar电离形成Ar正离子与电子,利用Ar正离子对工件的表面进行撞击,去除工件表面的杂质,但是上述方式,由于加载的偏置电压过高,容易造成真空腔室内产生...
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