技术编号:15906071
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及真空镀膜领域,具体是指一种高效环形对溅射磁控镀膜机。背景技术真空镀膜是目前较为前沿的镀膜技术,而真空镀膜中的磁控溅射镀膜法采用通过通电阳极放出电子,并使电子在电场的加速作用下与真空腔内的气体分子碰撞,从而使气体分子电离,而电离的气体分子又在电场的作用下轰击阴极上的金属粒子,使金属粒子电离溅射,并使得电离出来的金属离子沉积于待镀工件表面形成薄膜,其中为了使电子能够更加高效的与气体分子进行碰撞,从而提高气体分子电离率,采用在阴极内部装入磁铁形成磁控阴极,因此电子在电场及磁场的共同作用下...
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