技术编号：15967743
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及金属化薄膜金属镀层测厚仪，特别是涉及一种金属化薄膜方阻在线监视装置。背景技术金属化薄膜是薄膜电容器生产制造的重要材料，将高纯度金属（如AL，ZN）在高真空状态下熔化、蒸发、沉淀到介质基膜上，在介质基膜表面形成一层极薄的金属镀层后的薄膜就是金属化薄膜；金属镀层厚度的纵向、横向均匀度是镀膜制品重要质量和技术指标，金属化薄膜上的金属镀层厚度很小极难测量，通常用方块电阻来表示金属镀层的厚度，单位正方形面积的电阻值称为方阻（即方块电阻，用Ω/□表示）；在镀膜过程中，如果不能实时了解膜面镀层的均匀...
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