技术编号：15978700
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。相关申请的相交引用本申请要求2012年11月15日提交的美国临时申请61/726,843和2012年12月18日提交的美国临时申请61/738,700的权益，并且其通过整体引用并入本文。技术领域本发明涉及用于生成用于在用于器件制造的光刻应用中使用的辐射的方法和设备。背景技术光刻设备是将期望的图案应用到衬底上(通常到衬底的目标部分上)的机器。例如，可以在集成电路(IC)的制造中使用光刻设备。在这种情况下，可以使用图案形成装置(备选地称为掩模或者掩模版)来产生将在IC的单独层上形成的电路图案。该图案...
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