技术编号：15978712
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及模拟浸没式光刻浸没流场运动的方法，具体来说，涉及一种用于模拟浸没流场运动的试验台。背景技术浸没式光刻作为45nm以下应用最广的光刻技术，如何满足浸没式光刻高生产率的要求，提高浸没式光刻的扫描速度，是目前浸没式光刻的核心问题。投影物镜和硅片缝隙间的流场在高速扫描运动下的密封性和稳定性限制了浸没式光刻机的产率和良品率。安装在投影物镜和硅片间的浸没结构的吸附液体的小孔在负压的作用下增强对浸没液体的束缚能力，是保证浸没流场的更新、硅片和物镜之间缝隙的密封的关键技术。在此基础上，针对浸没结构中的...
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