技术编号：15978720
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及一种半导体液体处理设备，具体涉及一种显影液处理装置，用于光刻工艺中。背景技术现有技术中用于光刻曝光后的显影液处理装置，通常采用浸泡或喷洒的设置将显影液施加到曝光的光刻胶上，浸泡设置在显影工艺过程中显影的速度较慢，而现有的喷洒装置在显影过程中会产生显影液喷洒的不均匀，尤其是显影液喷头喷出面边缘处显影液的分布不均匀造成光刻图形显影的不均匀，进而降低了半导体工艺的加工精度。发明内容基于解决上述问题，本发明提供了一种显影液处理装置，用于光刻工艺中，所述显影液处理装置包括：显影液喷头，所...
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