技术编号：15978729
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光刻胶清洗组合物技术领域，更具体地说，是涉及一种正性光刻胶清洗组合物及其制备方法。背景技术光刻工艺是用于制造触控电路、印刷电路、集成电路、显示屏和基因芯片等领域中所使用的常规工艺，而光刻胶是光刻工艺中重要原材料之一。光刻胶是由感光树脂、增感剂和溶剂等成分组成的且对光敏感的混合液体。目前光刻胶的型号多样，根据其显影原理大体可分为正性胶和负性胶。光刻胶的作用主要是在材料表面形成掩膜，曝光后进行图形转移。在光刻工艺中，得到所需图形后应当去除残留光刻胶，之后进行下一道工序。在光刻胶的去除工序中...
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