技术编号:16020146
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种光通信薄膜,特别涉及一种离子束辅助沉积光通信薄膜设备。背景技术离子束沉积是在气相沉积的同时,进行离子束轰击混合以改善薄膜性能的方法。在离子辅助沉积过程中,薄膜的折射率和离子能量、流密度、质量、直径、入射角度、薄膜材料的质量、密度、蒸发速率、基板温度、真空度等是息息相关的。当蒸发速率、压强、蒸发距离、膜材料密度、离子直径、离子入射角增大时,薄膜的折射率会变小;而当离子质量、离子能量、离子流密度、基板温度增大时,薄膜的折射率就会变大。但是一般的离子束辅助沉积设备对于真空室的真空度检...
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