技术编号：16063855
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及剥离液回收技术领域，具体涉及一种剥离液再生工艺段的光刻胶去除方法。背景技术近几年国内电子制造产业发展迅速，剥离液等电子化学品的使用量也大为增加。通常在液晶显示面板、半导体集成电路等工艺制造过程中，需要用剥离液将涂覆在微电路保护区域上作为掩膜的光刻胶除去。通常使用的剥离液主要包括有机胺和极性有机溶剂的混合物，并含有以少量水为代表的轻组分。在剥离液应用过程中产生大量剥离液废液，该废液中除了含有少量高分子树脂和水之外，大部分是具有利用价值的有机组分。通常清洗光刻胶需要大量的溶剂，而且这些溶剂...
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