技术编号:16164519
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及平面靶整平用矫正平台机构,属于矫正平台的技术领域。背景技术平面靶整平用矫正平台机构可以快速的将靶材矫正过来,降低工艺成本、解决工艺难题和满足进一步提高薄膜性能的工艺参数优化,前者关注于靶材利用率、沉积速率、薄膜均匀性以及溅射过程稳定性等方面的问题,后者由于低能离子轰击在薄膜沉积过程中的重要作用。实用新型内容实用新型目的:为了克服矫正成本过高的问题,本实用新型提供平面靶整平用矫正平台机构。工艺方案:本实用新型公开平面靶整平用矫正平台机构,包括双层矫正平台、平面靶材、液压千金顶、支撑脚...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。