技术编号:16210108
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于镀膜技术领域,具体的说是一种基于辉光放电原理将金属沉积在塑胶基材表面的镀膜系统。背景技术溅镀是一种物理气相沉积技术,溅镀原理是在真空环境下,利用辉光放电或离子束产生的高能等离子体撞击耙材,以动量转移方式将耙材内的原子从耙材上轰击出来而沉积在基板上形成薄膜。由于溅镀可以达成较佳的沉积效率、精确的成份控制,以及较低的制造成本,因此已广泛应用于工业中各种金属和非金属膜层的制作。现有技术中也出现了一些溅镀装置的技术方案,如申请号为2010106052656的一项中国专利公开了一种基于辉光放电原...
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