技术编号:16210799
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及准一维纳米材料制造研究领域,具体说涉及一种二氧化硅包覆三氟化钆带套带结构纳米带的制造技术。背景技术无机物纳米带的制备与性质研究目前是材料科学、凝聚态物理、化学等学科研究的前沿热点之一。纳米带是一种用人工方法合成的呈带状结构的纳米材料,它的横截面是一个矩形结构,其厚度在纳米量级,宽度可达到微米级,而长度可达几百微米,甚至几毫米。纳米带由于其不同于管、线材料的新颖结构以及独特的光、电、磁等性能而引起人们的高度重视。三氟化钆或者称为氟化钆GdF3广泛地应用于制备金属Gd的原料和电弧精棒原料,...
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