技术编号:16238477
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明的多个方面和实施方式涉及蚀刻方法和蚀刻装置。背景技术FPD(Flat Panel Display,平板显示器)中所使用的薄膜晶体管(TFT:Thin Film Transistor)是通过在玻璃基片等基片上将栅极电极、栅极绝缘膜、半导体层等一边图案化一边依次层叠而形成。在TFT的沟道中,从电子移动度的高度和耗电低等观点来看,使用由铟(In)、镓(Ga)、和锌(Zn)构成的氧化物半导体。这种氧化物半导体在非结晶状态下也具有较高的电子移动度。因此,通过在TFT的沟道中使用氧化物半导体,能够实现...
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