技术编号：16243833
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光阻清洗领域，具体涉及一种涂布口金组件及涂布口金系统。背景技术TFT-LCD、OLED等半导体显示领域的诸多制程中，光阻通过涂布机均匀涂布在基板表面，然后经过曝光形成各种面内图案，涂布时光阻的膜质厚度及成膜均一性会极大地影响各层像素图案质量。涂布机在进行光阻涂布后，往往会有多余光阻残留在Gantry口金外侧，如果未完全清理干净，下次作业时可能会导致光阻涂布异常，如出现mura，更严重时甚至会发生破膜现象，影响涂布制程的顺利进行和产能提升。目前，主要通过人员手动擦拭及擦除件自动刮拭以进行...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。