技术编号：16269404
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及电子器件清洗剂技术领域，具体是一种半导体器件防蚀剂清洗剂及制备方法。背景技术在电子工业中，制造和使用非晶硅太阳电池、液晶平面显示器、半导体元件、半导体器件和集成电路等，都需要清洗处理，尤其是半导体器件的清洗时，针对玻璃衬底表面、TCO膜表面、半导体片表面和所用器皿表面的油脂类沾污，以及离子型和原子型杂质沾污的去除。传统的清洗剂含易燃易爆成分，有机溶剂含量高、挥发性强，环境污染严重，危害身体健康且生产成本较高。目前使用的清洗剂是采用酸碱类化学试剂和有机溶剂，如用双氧水、氨水、盐酸和水配制...
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