技术编号:16285365
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及粒子场测量技术领域,尤其涉及一种基于IPI聚焦像和离焦像的宽尺寸粒子场测量方法。背景技术粒子是指尺寸在毫米以下至微米、以及纳米量级的微小固体、气泡和液滴,广泛存在于工业生产和科学研究中。粒子尺寸测量是该领域一个长期的研究方向,具有重要的意义。目前已提出了基于光学原理的多种粒子尺寸测量方法,每一种方法由于受原理、系统等限制,都有一定的测量范围。干涉粒子成像技术(IPI)是一种目前备受关注的粒子测量方法,其基本原理是基于Mie散射理论,通过测量粒子散射光干涉条纹图的条纹数/条纹频率,或聚焦...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。