技术编号:16285643
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光学材料杂质测试技术领域,具体涉及红外光学材料杂质测试方法。背景技术光学材料中的杂质是光学材料制造后留下的气泡、结石等非均匀性物质缺陷,这些非均匀性物质缺陷将会严重地影响光学系统的成像质量。测试光学材料中的杂质是评价光学材料是否能满足使用的必要环节。对于可见波段的光学材料,材料中的杂质是通过漫反射光源照射,用放大镜进行人眼直接观察来记录杂质的数量和大小,然后带入公式中计算后评价光学材料杂质缺陷的等级。对于不能透过可见光(波长为0.4μm~0.78μm)的红外光学材料(波长为0.8μm~...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。