技术编号:16304993
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于等离子体产生和低温等离子体技术领域,具体涉及一种体放电等离子体发生装置。背景技术等离子体技术是现代科学技术的基础之一,广泛地应用到材料、光源、能源等领域。低温等离子体技术是是等离子体技术的重要分支,广泛地应用到材料制备、材料表面改性、薄膜沉积和等离子体光源,以及等离子体刻蚀等领域。在低温等离子体应用中,等离子体发生装置是等离子体应用过程中的重要部件,涉及到能源利用效率和等离子体的应用水平等多方面问题。等离子体的产生与等离子体发生装置有很大关系,等离子体发生装置是等离子体应用的重要部...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
该类技术注重原理思路,无完整电路图,适合研究学习。