一种制备全部覆盖侧面电极的方法与流程技术资料下载

技术编号:16384191

提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及一种制备全部覆盖侧面电极的方法,具体涉及一种制备微纳电子器件上侧面电极全部覆盖的方法,属于光电子技术领域。背景技术微纳电子器件是指利用微纳级加工和制备技术,如:光刻、外延、微细加工、自组装生长及分子合成技术等,设计制备而成的具有微纳级尺度和特定功能的电子器件。其中,纳米技术是一门在0.1~100um 尺度空间内, 对电子、原子和分子的运动规律和特性进行研究并加以应用的高科技学科,它的目标是用单原子、分子制造具有特定功能的产品。国内外科技界已普遍认为纳米技术已成为当今研究领域中最富有活力...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。

详细技术文档下载地址↓↓

提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
该分类下的技术专家--如需求助专家,请联系客服(仅向企业会员开放)