技术编号：16460390
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及激光领域，尤其涉及一种波导结构制作方法。背景技术光波导制作的现有技术，包括光刻法、反应离子刻蚀以及高能离子注入等，均属于平面二维技术，需要的处理步骤很多，大都需要设计掩模，而激光直写技术则很方便，不需要掩模，且一步完成，可以很方便地刻写出三维波导。在激光刻波导技术中，紫外激光和飞秒激光均是较好的直写激光光源。紫外激光作为刻写光源主要缺陷在于玻璃对紫外光的吸收较大，进而限制了穿透距离(<1mm)，而飞秒激光则不存在这个问题。在刻蚀熔石英的光波导中，使用飞秒激光刻写，波导质量...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。