技术编号：16472781
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及微纳结构复制技术领域，尤其是涉及一种基于离心力的微纳结构复制方法及制备得到的聚合物微纳结构。背景技术微纳制造技术是在微米、纳米级尺度上对材料进行制造加工的技术，是微纳结构、微器件和微纳系统制造的基本手段和重要基础。微米级尺度的制造技术主要是微机械加工与激光刻写等，而纳米级尺度的制造技术主要包括自组装技术与基于半导体的光刻技术。光刻技术中的光学光刻、离子束光刻、X射线光刻、反应离子刻蚀以及纳米压印光刻技术都属于对掩模板的微纳米结构复制技术。例如，光学光刻是让强光通过光学掩模板打到涂有光刻...
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