技术编号:16594044
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本申请案要求2016年3月28日申请的标题为“氢化且富含BF3同位素的掺杂剂来源的气体组合物(Hydrogenated Isotopically Enriched BF3Dopant Source Gas Composition)”的美国临时申请案第62/314241号的权益,出于所有目的,其内容以全文引用的方式结合在此。技术领域本发明涉及一种用于离子植入中的氢化且富含三氟化硼(BF3)同位素的掺杂剂来源气体组合物,和相关的方法和设备。背景技术离子植入用于集成电路制造中以在制造微电子/半导体制造...
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