技术编号:16597292
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明的实施方式涉及一种匹配器及等离子体处理装置。背景技术在称为半导体器件的电子器件的制造中,为了对被加工物进行等离子体处理,例如为了等离子体蚀刻而使用等离子体处理装置。等离子体处理装置具备腔室主体、电极、高频电源、及匹配器。腔室主体提供其内部空间作为腔室。电极用于在腔室内生成等离子体或生成偏置电压的电极。高频电源产生高频。高频电源经由匹配器而连接于电极。匹配器具有匹配高频电源的输出阻抗与负荷阻抗的电路。等离子体处理装置所使用的匹配器的电路通常具有可机械性地变更电容的可变电容器。这种可变电容器无...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
该类技术注重原理思路,无完整电路图,适合研究学习。