技术编号:16626472
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于新型显示材料制备技术领域,具体涉及一种靶材的制备方法。背景技术随着平板显示技术的不断发展,对于制备透明导电、绝缘层以及半导体层的薄膜所用的各种靶材的需求日益增加,比如用于镀制导电薄膜的高质量的ITO靶材、ZTO靶材、WZTO靶材。目前工业上制备各类薄膜主要采用磁控溅射的方法,磁控溅射法制备得到的薄膜具有表面均匀性好,薄膜致密度高等优点,而采用磁控溅射的方法制备得到的薄膜的质量好坏与靶材的质量有着很大的关系。ITO(氧化铟锡)靶材是用于磁控溅射镀制ITO透明导电薄膜的阴极材料,通过调节I...
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