技术编号：16651390
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于半导体集成电路制造工艺技术领域，尤其涉及一种形成光学分光透镜的结构和方法。背景技术硅基光学传感器(CCD/CIS，charge-coupled device/CMOS image sensor)是光学图像传感器的主流。为得到彩色图像，需要光学分光透镜对光线进行分光。目前，光学分光透镜都是在封装时形成，仅能反射特定波长的光，并且与现有集成电路制造工艺不能兼容。随着传感器尺寸不断缩小，透镜的尺寸也必须随之缩小，这对材料、工艺都提出了更高的要求。发明内容本发明的目的在于克服上述缺陷，提出了一...
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