薄膜晶体管及其制作方法与流程技术资料下载

技术编号:16724498

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本发明涉及一种薄膜晶体管及其制作方法。背景技术在制作金属氧化物薄膜晶体管时,由于由金属氧化物所形成的通道层在刻蚀形成源极及漏极时容易被损坏,通常需要在该通道层上额外设置一刻蚀阻挡层以保护通道层。然而,该刻蚀阻挡层不仅增加了薄膜晶体管的整体厚度,而且会因为需要添加额外的制程而增加了生产成本。此外,目前随着显示面板分辨率越来越高,单个薄膜晶体管的尺寸越来越小,即使在不很高的电压下,也可产生很强的电场,从而易导致出现热载流子,产生热载流子效应。然而,热载流子效应对电子元器件有很大的害处,极易导致薄膜晶...
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