技术编号：16810247
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于制造电子设备的光掩模的检查，特别地，涉及适合用于制造显示装置的光掩模的检查。本发明特别涉及测量光掩模(相移掩模)的相移量的方法及装置，该光掩模具备利用相移效应的转印用图案。背景技术相移掩模与二进制掩模相比，转印性能、特别是焦点深度及对比度优异，因此主要被用作半导体装置制造用光掩模。并且，提出了检查这些相移掩模的图案所具有的相移量的检查方法。在专利文献1中，记载有用于测量由形成于曝光用掩模的半透明相移膜引起的相位偏移的相位检查方法。该相位检查方法包括：利用由形成于遮光膜的线/空白构成...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。