技术编号：16813965
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本公开涉及热处理装置、热处理方法以及存储介质。背景技术专利文献1公开了一种热处理装置，具备：载置部，其被设置在处理容器内，用于载置基板；加热部，其用于对载置于载置部的基板进行加热；供气口，其以沿着基板的外周的方式设置，用于向处理容器内供气，设置在基板的外周的侧方的位置；以及排气口，其用于从处理容器内排气，设置在基板的中央部的上方。专利文献1：日本特开2016-115919号公报发明内容发明要解决的问题本公开的目的在于，提供对于提高覆膜形成时的膜厚均匀性有效的热处理装置、热处理方法以及存储介质。用...
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