技术编号：16817544
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于半导体制造技术领域，具体涉及一种静电卡盘及反应腔室。背景技术静电卡盘为反应腔室中的关键零部件，用于对晶圆进行支撑、固定和温度控制。图1为现有技术中提供的一种静电卡盘的结构示意图，如图1所示，静电卡盘包括由上至下依次设置的陶瓷层1、加热层2与基座3。其中，在陶瓷层1内设置有吸附电极，当晶圆放置在静电卡盘上时，通过对吸附电极施加直流电压，能够在吸附电极与晶圆之间产生静电吸附力，从而可以实现对晶圆的固定。晶圆完成加工之后，对吸附电极施加大小相同的反向电压，以解除对晶圆的吸附。加热层2用于...
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