技术编号：16848992
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及微纳米器件制备领域，特指一种基于溶剂蒸发的微米级凹坑的批量制备方法和工艺过程。背景技术微米级凹坑是一种尺寸在几微米到几百微米的凹坑，它在细胞生长、化学微反应器、光子晶体成核以及纳米气泡液滴成核方面都有着广阔的应用前景。目前已有多种方法用于制备微米级凹坑，如软光刻法、溶剂液滴腐蚀法以及模板法。其中软光刻法是利用微纳米透镜进行聚光，对光刻专用基底进行刻蚀。溶剂液滴腐蚀法是将特定溶剂液滴蘸到针尖，然后针尖靠近或接触聚合物薄膜表面，由于液滴的腐蚀，表面会形成一个凹坑。为得到更小尺寸的凹坑，利用...
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