技术编号:16849293
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于多晶硅生产领域,具体为一种高效生产多晶硅的还原装置及工艺。背景技术我国多晶硅工业化始于上世纪50年代,于21世纪初迅速发展,随着科技创新和技术进步,多晶硅行业竞争越演越烈,如何降低多晶硅的生产成本,提高多晶硅的生产效率,是立足于多晶硅行业的关键。还原工序是多晶硅生产过程中最重要的一个环节,该工序的核心设备为CVD还原炉,该炉型在多晶硅沉积过程中对温场、流场的控制要求很高,需要保证多晶硅沉积过程的均匀性,否则就会发生“雾化”、“接地”、甚至“倒炉”等情况。如何使还原过程稳定高效的运行,是...
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