技术编号:16856973
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体设备技术领域,更具体地,涉及一种可增强清洗效果的沉积系统及方法。背景技术在半导体行业中,随着电子器件的几何尺寸不断减小以及器件的密集度不断提高,特征尺寸和高宽比变得越来越有挑战性。原子层沉积(Atomic layer deposition,ALD)就是为了应对这种挑战而提出的一种新的薄膜沉积方法。原子层沉积以其独特的自限制性生长模式,使其具有薄膜生长厚度精确可控、优异的保形性、成分可控等优点,越来越受到全世界科技工作者的关注。热诱导ALD过程是最普通的ALD技术,其使用热量使两种...
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