技术编号:16895094
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种采用真空蒸发的镀膜装置,尤其涉及一种多靶材真空镀膜装置及镀膜方法,能够实现多种材料的真空蒸发镀膜。背景技术真空蒸发镀膜技术作为一种成熟的材料加工工艺,已经广泛应用于半导体和平板显示器行业。传统的真空蒸发镀膜系统包括电子束发生装置、真空蒸发室、真空系统以及样品室等主要部分,通过将固体材料置于高真空环境中进行加热蒸发或升华,使之沉积在衬底基片的表面,从而形成镀膜。传统真空蒸发镀膜技术只能进行单一材料的镀膜,无法实现多种靶材的一次性镀膜,且无法实现单层图样、纳米阵列和多层复合结构的制备。...
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