技术编号:16918945
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及沉积膜消除的技术领域,特别是涉及一种消除CVD反应腔室内表层沉积膜的方法。背景技术众所周知,化学气相沉积,简称CVD,是指高温下的气相反应,例如,金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解,氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法。这种技术最初是作为涂层的手段而开发的,但不只应用于耐热物质的涂层,而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等,是一个颇具特征的技术领域。CVD把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气...
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