技术编号：16980870
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本公开大体上涉及用于气相过程的设备。更具体地说，本公开的示范性实施例涉及一种包含共同衬底转移和处理区的反应器，且涉及一种适合用于所述反应器中的衬底升降机构。背景技术用于处理半导体晶片等衬底的气相反应器通常包含反应室内的基座。在处理期间，使用机械臂将一个或多个衬底放置在反应室内，且放在基座上。在处理之后，使用机械臂使衬底移离基座表面且通过反应室中的开口。通常，期望在反应室内维持相对小的反应空间或区域。相对小的反应空间允许更高效的衬底处理。举例来说，与较大反应空间相比，当在相对小的反应空间中处理衬底...
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