技术编号:17021793
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于分析器具技术领域,具体涉及一种用于研发含抗污染成分的婴幼儿防皴霜的分析天平。背景技术分析天平已经成为实验室必不可少的设备之一,高精度的分析天平一般都需要在秤盘的外侧添加防护罩,即可以保护秤盘不受污染,保证测量精度,又可以保护天平不受损坏,且为了保证化验中的定量分析数值准确,分析天平精度为万分之一克,即0.1毫克。目前在使用分析天平对防皴霜进行检测时,难免会出现防皴霜滴液会洒落到分析天平内,从而对分析天平的结果造成影响,而直径使用抹布或其他清理工具直接进行清理时,不仅会导致清理的不变...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。