技术编号:17119855
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种与物理气相沉积系统一起使用的泻流源,特别是涉及一种含有所述泻流源的物理气相沉积系统,以及制备所述泻流源和物理气相沉积系统的方法。背景技术物理气相沉积是众所周知的沉积过程,其中,将被沉积在沉积室内的基片上的元素或分子,通过蒸发或升华过程被提供。然而物理上不同的过程中“蒸发”和“升华”这两个词在此被交替使用,并取决于将被沉积的材料。沉积室是封闭的且通常在真空下。也就是说,至少一些可测量的气体从沉积室中被移除。沉积室通常由钢,铝,其他金属或玻璃形成,并且在外部区域(通常为空气)与内部区域...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。