技术编号:17149664
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及真空镀膜技术领域,具体是一种真空室用降温装置。背景技术在真空镀膜生产线中,基片镀膜完成后,需要对基片进行梯度降温,以避免温差过大导致膜层开裂或脱落的现象。现有的降温方式主要是在真空室内部直接通过金属软管引入冷却水,如果在安装过程中安装不到位,会导致冷却水进入真空室而引起不能正常生产,同时,在拆卸维护的时候经常性会有水进入真空室形成污染,需要进行维修,从而耽误生产周期。发明内容针对上述现有技术中存在的问题,本发明提供一种安装使用方便、吸热效果好的真空室用降温装置。本发明采用的技术方案如下...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。