技术编号:17159620
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及薄膜制造技术领域,尤其涉及一种脉冲激光沉积系统及其薄膜制备方法。背景技术现有脉冲激光沉积系统(Pulsed Laser Deposition,PLD)在制造薄膜时,在基片沉积薄膜后需要等待冷却和手动更换基片,并不能连续制备多个样品,实现材料的高通量制备,且不能实时检测薄膜的沉积速率和优化调整薄膜制备参数,导致现有脉冲激光沉积系统薄膜制备的工作效率和控制便捷性不佳。发明内容鉴于此,本发明提供一种脉冲激光沉积系统及其薄膜制备方法,解决现有脉冲激光沉积系统薄膜制备的工作效率和控制便捷性不佳的...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。