技术编号：17165460
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及晶硅太阳能硅片刻蚀工序水膜喷淋工位，具体是一种晶硅太阳能电池刻蚀水膜匀膜装置。背景技术在太阳能电池生产工序中，刻蚀水膜的主要作用是在硅片表面覆盖一层水膜，硅片经过刻蚀槽时避免刻蚀槽酸性气氛对硅片表面腐蚀。目前使用的水膜系统为：感应器检测到硅片时经过一定时间间隔，水膜喷淋装置对硅片表面喷淋一定量的水。此方法虽然能使硅片表面覆盖水膜层，但不能保证水膜覆盖的均匀性，尤其表面脏污的硅片，脏污部位表面亲水性较差，很难被水膜覆盖，进而造成返工，异常片流入后道工序，会引起更多的EL测试异常。发明...
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