技术编号：17247208
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于半导体制造领域，具体涉及光伏电池制造领域，将原子层沉积（ALD）技术应用到光伏领域，生产超大规模产品的设备。背景技术随着光伏产业的规模化和光伏技术的迅速发展，ALD技术，即原子层沉积技术成为光伏产品降本增效的有效途径。原子层沉积技术就是将产品暴露在两种或两种以上前驱体气体中进行镀膜，通常的ALD设备将镀膜腔室分离为物料腔室（内腔室）和真空腔室（外腔室），物料腔室可以从主设备脱离进行装料，装好产品后物料腔室再运到真空腔中。内腔室是主要由进气口、出气口和物料口组成的方形腔室。此结构存在以下...
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