技术编号:17295213
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及向旋转的基板供给处理液来进行基板处理的基板处理装置和基板处理方法。背景技术作为半导体晶片或光掩膜用玻璃基板的表面处理装置,从提高表面处理的均匀性、再现性的观点出发,倾向于采用一片一片地处理基板的单片方式(枚葉方式)。在单片方式的基板处理装置中,一边使水平保持的基板绕其中心轴旋转(spin),一边将例如药液等处理液供给至基板的表面中央。供给至基板的处理液由于离心力而扩展至基板的整个表面。由此,进行基板整体的处理。当规定的药液处理结束时,进行用于通过冲洗液对残留于基板表面的药液进行冲洗的冲...
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