新型碳化硅结势垒肖特基二极管及其制作方法与流程技术资料下载

技术编号:17295703

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本发明涉及半导体功率器件,尤其涉及碳化硅二极管。技术背景中国专利200710153275.9,题为“SiC肖特基势垒半导体器件”中描述了第二导电类型的结势垒d1/d2≥1;该专利中,整个保护环的深度<有源区结势垒深度;中国专利:CN201710027731,题为“一种提高浪涌能力的碳化硅肖特基二极管结构及制备方法”中描述了有源区结势垒区的宽度分为宽窄2种,其间距均匀分布。以上专利描述中,有源P区与保护环P区的结深一致。这样会造成结势垒二极管的雪崩耐量较低。发明内容本发明所要解决的主要技术问...
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