技术编号：17335813
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于光刻的技术领域，具体涉及光刻投影物镜最佳焦面检测装置及方法。背景技术集成电路产业的发展与光刻技术的进步密切相关，光刻机作为集成电路生产过程中的关键设备，将掩模板上的电路结构缩印到硅片面光刻胶上，其成像质量直接决定了单个器件的物理尺寸。为了获得最佳曝光效果，覆盖有光刻胶的硅片需要与光刻投影物镜最佳焦面重合。因此，在光刻投影镜头系统集成后，需要精确探测其最佳焦面位置。光刻投影物镜最佳焦面的检测，一类方法通过对特殊掩模图像在不同成像位置曝光，根据曝光线条清晰度进行判断，该方法比较复杂，曝光后...
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