技术编号：17389048
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及半导体技术领域，特别是涉及一种半导体制造设备的排气监控系统。背景技术半导体制造的很多工序中，都需要排放气体。以半导体刻蚀工序为例，晶圆刻蚀完成后，需停留在净化储存区，进行除气动作，即抽取净化储存区(Purge Storage)内的气体，使得净化储存区获得一定真空度，从而减少晶圆表面残留的气体，避免残留气体在后续工序中发生气体凝结(gas condense)等现象，影响产品良率。现有的排气系统中，每台机台上均设置有排气管路，机台排出的气体通过排气管路排出，若机台的排气量异常时，会导致...
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